磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。

      磁控溅射阴极是指用于承载待溅射的靶材，主要包括以下部分：阳极【屏蔽罩】、阴极模块【靶材压条、隔膜压条、隔膜板、阴极体等】、磁路模块【磁钢和磁轭】、布气系统、安装法兰、水电气阴极外壳外接系统等。

      磁控溅射阴极是真空溅射设备中最重要的核心部件之一，其性能表现显著影响所沉积薄膜的质量和效率。

      成都超迈光电科技有限公司，为国家高新技术企业、国家标准拟定单位、创新型中小企业、省专精特新企业、新经济双百企业，已通过GB/T与GJB双体系认证。

      公司致力于真空镀膜、等离子刻蚀、人工晶体材料和特殊装备的技术提升，具有全系列涂层服务装备和检测手段，已申请国家专利60余项，授权专利与软件著作权50余项，拟定国家标准2项，行业标准1项，为中国物理学会固体缺陷专家委员单位，全国电热装备标准化委员会单位，已形成工业级、科研级和特殊级三大产品系列，公司在南充高新区(顺庆高新区)建有超迈智能产业园，一期已完成3.5万平方米厂房和配套办公生活设施建设，具备强大的研发和制造能力。

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